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Erhard Glatzel. I grandi progettisti ottici tedeschi. Seconda parte.

Un cordiale saluto a tutti i followers di NOCSENSEI; gli obiettivi fotografici tedeschi sono da sempre accompagnati da una fama quasi leggendaria e in gran parte giustificata, perché aziende come Carl Zeiss Jena / Carl Zeiss oppure Leitz / Leica hanno sistematicamente sfornato esemplari che rappresentavano il termine di riferimento per la concorrenza dell’epoca; questo trend prese avvio quando il supporto informatico alla progettazione non era ancora determinante come oggi e la creazione di pezzi particolarmente riusciti era soprattutto merito di pochi abilissimi matematici, autentici giganti del loro tempo la cui genialità fece la differenza e le fortune dell’azienda di riferimento; vorrei quindi dedicare un profilo completo e di ampio respiro ad alcuni di loro, avvalendomi di documentazione inedita, iniziando da colui che è stato responsabile di progetto della maggior parte degli obiettivi Carl Zeiss per uso fotografico, cinematografico e tecnico dalla fine degli anni ’50 alla fine degli anni ’80, il leggendario Dr. Erhard Glatzel.

Seconda parte

Un altro settore dell’ottica poco conosciuto ma fondamentale per la tecnologia moderna è quello delle ottiche per microlitografia utilizzate nella produzione di microchips per circuiti elettronici; tali obiettivi sostengono l’ultimo stadio di riduzione della maschera originale sul wafer di silicio e per mantenere la definizione delle varie piste sul formato definitivo sono necessari valori di risoluzione elevatissimi, anche superiori a 1.000 linee/mm… Per capire l’importanza di questi obiettivi basta immaginare per un attimo come sarebbe l’ambiente che ci circonda togliendo improvvisamente l’elettronica dall’equazione: sicuramente gran parte del nostro mondo scomparirebbe all’istante e anche moltissime conquiste umane sarebbero cancellate; Erhard Glatzel raggiunse l’età per la pensione quando non venivano ancora concepiti i modelli più esasperati richiesti dalla tecnologia attuale (per raggiungere la risoluzione necessaria alla produzione di microchip sempre più piccoli ormai lavorano a lunghezze d’onda dell’ultravioletto inferiori a 200 nanometri, con lenti in quarzo e schemi a 30 e più lenti, con spazi d’aria riempiti di argon o addirittura sotto vuoto), tuttavia fra il 1970 e il 1989 ha calcolato la bellezza di 36 modelli diversi ed è assai probabile che ciascuno di noi abbia posseduto almeno un dispositivo elettronico con microchips realizzati utilizzando gli S-Planar progettati da Glatzel.

Questa immagine illustra tre modelli di S-Planar per microcircuiti calcolati da Glatzel (a sinistra ci sono due esemplari diversi dello stesso modello, prodotto in 384 pezzi soltanto); si tratta di ottiche ad altissima risoluzione e per raggiungere questi valori era necessario adottare parametri restrittivi: gli obiettivi erano ottimizzati su una banda dello spettro luminoso molto ristretta (anche solo 50 nanometri, su un’estensione del visibile di quasi 400) e, per incrementare il potere risolvente si sfruttava una lunghezza d’onda decisamente corta, ai limiti dell’ultravioletto (436 nanometri per gli S-Planar 90mm 1:2,1 e 50mm 1:1,6 e 405 nanometri per il piccolo S-Planar 25mm 1:1,6, qui nella versione ad onda più corta delle due disponibili a catalogo); naturalmente l’ampia apertura relativa aumenta la risoluzione teorica e anche la coniugata immagine e soggetto sono fisse e rigidamente predeterminate.

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Un abbraccio a tutti – Marco chiude.

 

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